Zajęcia z podstawy ochrony własności intelektualnej dla 2. stopnia (stacjonarne) odbędą się 16.03 i 23.03.2026 w godz. 16.45-18.15. Obecność obowiązkowa.

Zajęcia z podstawy ochrony własności intelektualnej dla 2. stopnia (niestacjonarne zaoczne) odbędą się 18.04.2026 w godz. 08.15-9.45 i 18.30-20.00. Obecność obowiązkowa.